Le TWINSCAN NXT d’ASML fait entrer la fabrication des semi-conducteurs dans une nouvelle phase

• ASML

VELDHOVEN, Pays-Bas, le 16 octobre 2008 - ASML Holding NV (ASML) a dévoilé les innovations de sa plateforme de lithographe TWINSCAN^TM. Celle-ci bénéficie d'améliorations en termes de densité et de performances permettant à l'industrie des processeurs de poursuivre son objectif visant à créer des puces toujours plus perfectionnées et abordables. La plateforme TWINSCAN NXT, présentée à la presse au ASML Research Review, supporte également les techniques à double patterning qui permettent aux fabricants de réduire jusqu'à 42% les plus petits composants des puces.

Vous trouverez des informations complémentaires dans la version anglaise de ce communiqué.

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